中频磁控溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是：
1.克服了阳极消失现象。
2.减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
我公司研发了平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
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广泛应用于塑胶、电子、钟表、食品、化工、冶金、五金、汽车、造纸、陶瓷，玻璃等行业
普通会员
品牌： |
汇成真空 |
所在地： |
广东 东莞市 |
起订： |
≥1 台 |
供货总量： |
10 台 |
有效期至： |
长期有效 |
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